全新激光鈍化方法提高了前沿LED的效率
據(jù)外媒報道,來自美國海軍研究實驗室(簡稱NRL)的科學家們發(fā)現(xiàn)了一種新方法來鈍化下一代單層光學材料缺陷,以提高光學質量,并實現(xiàn)單層LED和其他光學元件的小型化。
NRL的科學家開發(fā)的這種激光加工技術,可極大地改善單層二硫化鉬(MoS2)的光學性質,而二硫化鉬也是一種具有高空間分辨率的直接間隙半導體;這種工藝可將激光束寫入?yún)^(qū)域的材料的光發(fā)射效率提高200倍。所產(chǎn)生的鈍化層在空氣和真空中是穩(wěn)定的。
此次研究人員之一的Saujan Sivaram表示:“從化學角度來看,我們發(fā)現(xiàn)了一種使用激光和水分子的全新光催化反應;從一般的角度來看,這項工作可以將高質量、具備光學活性的原子級薄材料集成到各種應用中,如電子、電催化劑、存儲器和量子計算應用等。”
Sivaram指出,由于其高光吸收和直接帶隙等特性,原子級薄的過渡性金屬雙硫屬化合物(TMD),如二硫化鉬(MoS2)等,對于柔性器件、太陽能電池和光電傳感器等而言用處極大。他表示:“對于那些重量和柔性等非常重要的應用而言,這些半導體材料尤其具有優(yōu)勢。不幸的是,它們的光學性質通常是極其易變和不均勻的,因此改善和控制這些TMD材料的光學性質以實現(xiàn)可靠的高效器件變得非常重要。缺陷往往會破壞這些單層半導體的發(fā)光能力。這些缺陷是非輻射狀態(tài),產(chǎn)生的是熱量而不是光,因此,去除或鈍化這些缺陷是朝著高效光電器件邁出的重要一步?!?/p>
在一個傳統(tǒng)的LED中,大約90%都是用來改善冷卻效果的散熱器。缺陷減少之后,尺寸更小的設備將消耗更少功率,從而使分布式傳感器和低功率電子設備的使用壽命更長。
通過水分子鈍化
研究人員證明,僅在暴露于能量高于TMD帶隙的激光下時,水分子才能使MoS2鈍化。產(chǎn)生的結果是光致發(fā)光增加而沒有光譜偏移。與為經(jīng)過水分子鈍化處理的區(qū)域相比,經(jīng)過處理的區(qū)域保持了強烈的光發(fā)射。這也說明了環(huán)境氣體分子和MoS2之間的化學反應是由激光導致的。